Technologies et caractérisation



Les investissements colossaux (2500 Milliards d’€ sur 30 ans) de l’industrie des semiconducteurs ont largement contribués à l’essor des nanotechnologies. Nanosciences et nanotechnologies se sont nourries mutuellement au cours de cette révolution industrielle. Aujourd’hui, les outils technologiques utilisés pour construire et assembler les nano-objets se diversifient. De nouvelles techniques d’observation et de caractérisation ont récemment vues le jour. Tout ceci participe au dynamisme qui entoure aujourd’hui le monde des "nanos".

Technologies : TECH

spécialité acronyme: sous-thème
characterization {TECH}[CHAR](EB): scanning, transmission, holographic electron beam imaging and spectroscopy
{TECH}[CHAR](NEUTR): neutron based analysis and imaging
{TECH}[CHAR](SYNRAD): synchrotron radiation including PIM imaging and spectroscopy
{TECH}[CHAR](XRAY): xray analysis
nanofabrication {TECH}[NFAB](ETCH): All etching techniques
{TECH}[NFAB](FIB): focused ion beam lithography
{TECH}[NFAB](NIMPR): nano imprint techniques
{TECH}[NFAB](NLITH): electron nanolithography
{TECH}[NFAB](NSTER): nano stereolithography
metrology {TECH}[NMET]: nano metrology and standards
nanoprobes {TECH}[NPROB](AFM): AFM based imaging and microscopy
{TECH}[NPROB](NMAG): magnetic imaging and spectroscopy based on scanning Hall or SQUID probes
{TECH}[NPROB](NSOM): near field scaning optical microscopy, imagin and spectroscopy
{TECH}[NPROB](STM): STM based imaging, microscopy and spectroscopy

Articles

Caractérisation optique par microscopie NSOM, 19 juillet 2006
Le microscope optique en champ proche permet d’imager la surface d’un objet avec une résolution spatiale beaucoup plus petite que la longueur d’ondes. Elle exploite les propriétés du champ proche électromagnétique pour contourner le critère de Rayleigh.

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